歷史沿革

中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所
中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所籌建于1969年,1970年6月起在成都大邑縣霧山鄉(xiāng)動工興建,初名中國人民解放軍1019所。1973年4月長春光機所進行人員分遷,1973年7月正式投入科研試制工作,共建有6個研究室和6個試制加工車間,在編職工1200余人,開始試制第一代160數(shù)字式電影經(jīng)緯儀。
1975年12月更名為中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所,光電所向用戶移交了首批成功試制的兩臺第一代160數(shù)字式電影經(jīng)緯儀。
1977年12月,第一屆光電學(xué)術(shù)委員會成立,向中國科學(xué)院上報了1978-1985年科研發(fā)展規(guī)劃,提出了科研主攻方向是光測設(shè)備、大規(guī)模集成電路(LSI)裝備攻關(guān)項目。
1979年,光電所決定于四川省成都市南郊雙流縣興建新址,并于1988年完成全所整體搬遷工作。
1980年開展了自適應(yīng)光學(xué)領(lǐng)域的研究,并組建了中國首個自適應(yīng)光學(xué)實驗室,現(xiàn)在該實驗團隊已經(jīng)發(fā)展為國際最大的自適應(yīng)研究團隊,自適應(yīng)光學(xué)也成為目前光電所最重要的研究方向之一。
80年代中期,光電所在光電捕獲跟蹤測量技術(shù)和自適應(yīng)光學(xué)技術(shù)的基礎(chǔ)上,開始了激光光束控制技術(shù)的研究,并在90年代建成了國家863計劃光束控制重點實驗室、國家863計劃自適應(yīng)光學(xué)重點實驗室。實驗室擁有中國一流的人才隊伍和領(lǐng)先的技術(shù),參與完成了多次重大科學(xué)試驗,奠定了光電所在該領(lǐng)域不可替代的地位。
1981年,光電所研制成功中國首臺光刻機,該光刻機于1983年榮獲中國科學(xué)院科技進步一等獎。
1985年,中國首臺具有激光、紅外和電視三種自動跟蹤和測量手段的778光電經(jīng)緯儀研制成功,并成為獲得國家科技進步特等獎的重要子項目,這是中國第四代經(jīng)緯儀的代表,標(biāo)志中國光電跟蹤測量設(shè)備躋身世界先進水平。隨后,778的跟蹤測量技術(shù)被廣泛推廣應(yīng)用,顯著推動了中國光電工程和光電跟蹤的技術(shù)進步。
1986年,自適應(yīng)光學(xué)在世界上首次應(yīng)用于激光核聚變裝置(ICF)神光I號光束控制。
90年代末研制成功的新型紅外電視跟蹤經(jīng)緯儀實現(xiàn)出口,為中國高精度光電跟蹤經(jīng)緯儀由進口向出口的歷史轉(zhuǎn)變做出了重要貢獻。
1993年,被譽為中國電子十大科技成果之一的中國首臺g線光刻機——1.5-2微米實用型分步重復(fù)投影光刻機在光電所橫空出世;
1994年,美國才開始將這項技術(shù)用于其國家點火裝置原理樣機中,并稱是中國率先使用;1.2米望遠鏡可見光自適應(yīng)光學(xué)系統(tǒng)于1990年在中國首次實現(xiàn)對星體目標(biāo)的實時補償校正,使中國成為世界上第三個實現(xiàn)這一目標(biāo)的國家。

產(chǎn)業(yè)園
1997年,光電所首批通過中科院科研基地型研究所定位評估;光電所自主研發(fā)0.8-1微米分步重復(fù)投影光刻機,是中國目前完全自主研發(fā)的唯一一臺做出過器件的光刻機。1999年,光電所微細加工光學(xué)技術(shù)國家重點實驗室、國家863計劃光束控制重點實驗室、國家863計劃自適應(yīng)光學(xué)重點實驗室率先進入中國科學(xué)院知識創(chuàng)新工程試點一期。
2001年,全所整體進入創(chuàng)新試點二期,在此后十余年內(nèi),光電干擾與防護、微納光學(xué)、航空航天光電、天文目標(biāo)觀測、生物醫(yī)學(xué)光學(xué)等新興學(xué)科在光電所如雨后春筍般涌現(xiàn),形成了以國民經(jīng)濟發(fā)展和國家安全的戰(zhàn)略需求為牽引,面向世界光電科技領(lǐng)域發(fā)展前沿,重點開展光電工程應(yīng)用基礎(chǔ)性、前瞻性、戰(zhàn)略性高技術(shù)研究與系統(tǒng)集成創(chuàng)新研究的格局。蓬勃發(fā)展的科技事業(yè)培養(yǎng)出了一支中國一流的科研團隊,胡錦濤、李長春、李嵐淸等多位黨和國家領(lǐng)導(dǎo)人先后視察光電所,并對光電所寄予厚望。
2018年11月29日,由中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所承擔(dān)的國家重大科研裝備“超分辨光刻裝備項目”在成都通過驗收,作為項目重要成果之一,可加工22納米芯片,中國科學(xué)家研制成功世界上首臺分辨力最高的紫外超分辨光刻裝備,并形成一條全新的納米光學(xué)光刻工藝路線,具有完全自主知識產(chǎn)權(quán)。[1]
機構(gòu)介紹
中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所(簡稱光電所)始建于1970年。建所以來,圍繞國家重大戰(zhàn)略需求,聚焦世界科技前沿開展光電領(lǐng)域基礎(chǔ)性、前瞻性、顛覆性的創(chuàng)新研究,逐步成為國家科技戰(zhàn)略體系中不可或缺的光電科技力量。申請專利1700余件,授權(quán)專利1000余件,發(fā)表論文5700余篇。
光電所在自適應(yīng)光學(xué)、光束控制、微納光學(xué)等領(lǐng)域取得了多項重大成就,先后取得包括國家科技進步特等獎在內(nèi)的500余項科技成果,與此同時,廣泛開展國內(nèi)外學(xué)術(shù)交流與合作,多次承辦國際先進光學(xué)制造和檢測會議等國際學(xué)術(shù)交流活動。[5]
組織架構(gòu)
如圖[6]

組織架構(gòu)
文化傳統(tǒng)
所徽

所徽
“光電所”的標(biāo)準(zhǔn)色由藍、紅兩色構(gòu)成。選擇藍色作為“光電所”的標(biāo)準(zhǔn)色,體現(xiàn)“光電所”在光電技術(shù)領(lǐng)域的博大精深。選擇紅色,象征著蓬勃向上的朝氣和紅紅火火的發(fā)展前景;同時寄托著“光電所”致力向國際一流的現(xiàn)代研究所邁進的寓意。在視覺傳播上,熱烈、醒目,具有很強的識別性。
標(biāo)志以凹鏡、銀色為主體。藍色凹鏡,寓指煥發(fā)科技之光的“光電所”;紅色銀河,神似軌道,寓指“光電所”集光電領(lǐng)域眾多技術(shù)于一體的突出地位、包容萬物的胸懷和追求卓越的奮斗足跡;內(nèi)嵌白色弧形,寓指“光電所”執(zhí)著創(chuàng)新的“光電精神”、辦所方針和發(fā)展歷程。
榮入“O、E”字母的“中”字造型,沉穩(wěn)挺拔,取“中西合璧,光電世界”之義,使整體構(gòu)思形神歸一。鮮活紅色,意蘊活力、信心和目標(biāo);深邃藍色,意蘊科技、志向和追求。汲“光電精神”之精髓,標(biāo)志富有強勁的科技感、擴張感、民族感、國際感和濃烈的現(xiàn)代時尚韻致,有力的凸顯“光電所”面向機遇和挑戰(zhàn),致力于推進光電科技發(fā)展進程,為中國經(jīng)濟發(fā)展和國防建設(shè)做出基礎(chǔ)性、戰(zhàn)略性、前瞻性的創(chuàng)新貢獻,邁向國際一流的現(xiàn)代研究所的輝煌前景。