正文

電弧離子鍍arcdischargedeposition:以鍍膜材料作為靶極,借助于觸發(fā)裝置,使靶表面產(chǎn)生弧光放電,鍍膜材料在電弧作用下,產(chǎn)生無(wú)熔池蒸發(fā)并沉積在基片上的一種鍍膜方法。